華為在美國與三星和解專利侵權訴訟：互利共贏

         2月27日消息，美國當地時間本周二，華為和三星在美國，共同向一家地方法院要求中止處理相關訴訟的程序。這幾意味著兩家已經持續2年之久的專利侵權法律大戰已經全麵達成和解。

           華為在美國與三星和解專利侵權訴訟（圖片來自http://sh.qihoo.com/pc/detail?url=https://www.toutiao.com/i6657996243106529800/&check=75e7e0f39f3a65d2&uid=65846823.3312084290276309500.1550270086818.247&sign=360_af0d257d&scene=1&refer_scene=）

        今天向法院提交的聯合動議證實華為和三星本周達成了庭外和解協議，至少和解在美國的訴訟。聯合文件稱，“雙方達成了和解協議，根據協議，它們將在未來數周采取措施，完成和解訴訟的工作，華為將在30天內提交撤訴文件。”

     不過遺憾的是，目前尚不清楚華為和三星和解協議內容。

       據悉，2016年，華為和三星相互起訴對方違犯協議、侵犯自己的專利。其中主要涉及4G通信技術、智能手機操作功能相關軟件。

        按照原計劃，兩家公司在2016年發起的訴訟，會將於今年9月開庭審理，屆時陪審團將聽取三星有關華為違背FRAND（公平、合理和非歧視）許可義務的主張。