“英特爾精尖製造日”首推全球晶體管密度最高製程工藝

“英特爾精尖製造日”活動今天舉行，展示了英特爾製程工藝的多項重要進展，包括：英特爾10納米製程功耗和性能的最新細節，英特爾首款10納米FPGA的計劃，並宣布了業內首款麵向數據中心應用的64層3D NAND產品已實現商用並出貨。

“英特爾遵循摩爾定律，持續向前推進製程工藝，每一代都會帶來更強的功能和性能、更高的能效、更低的晶體管成本，”英特爾公司執行副總裁兼製造、運營與銷售集團總裁Stacy Smith表示，“很高興首次在中國與大家分享英特爾製程工藝路線圖中的多項重要進展，展現了我們持續推動摩爾定律向前發展所獲得的豐碩成果。”

英特爾公司全球副總裁兼中國區總裁楊旭

英特爾公司全球副總裁兼中國區總裁楊旭歡迎來自合作夥伴、客戶、政府部門和學術界的嘉賓以及新聞媒體出席2017年9月19日在北京舉行的“英特爾精尖製造日”活動。此次活動著眼於快速發展的中國技術生態係統，重申英特爾與中國半導體產業共成長的承諾。英特爾在中國深耕32年，打造了世界級的晶圓製造和 封裝測試 工廠，自2004年以來在華協議總投入達130億美元。

Stacy Smith進一步表示，英特爾推動摩爾定律向前發展的能力——每一年都持續降低產品價格並提升其性能——是英特爾的核心競爭優勢。英特爾一直以來都是並將繼續成為推動摩爾定律向前發展的技術領導者，目前英特爾在製程工藝上保持著大約三年的領先性。

披露10納米製程的功耗和性能最新進展

英特爾高級院士馬博(Mark Bohr)介紹了英特爾10納米製程工藝的最新細節，展現了英特爾的技術領先性。在晶體管密度和晶體管性能方麵，英特爾10納米均領先其他競爭友商“10納米”整整一代。通過采用超微縮技術(hyper scaling)，英特爾10納米製程工藝擁有世界上最密集的晶體管和最小的金屬間距，從而實現了業內最高的晶體管密度。超微縮指的是英特爾在14納米和10納米製程節點上提升2.7倍晶體管密度的技術。在此次“英特爾精尖製造日”活動上，英特爾“Cannon Lake”10納米晶圓全球首次公開亮相。

英特爾公司執行副總裁兼製造、運營與銷售集團總裁Stacy Smith全球首次展示“Cannon Lake”10納米晶圓，采用超微縮技術，擁有世界上最密集的晶體管和最小的金屬間距，從而實現了業內最高的晶體管密度。

馬博還演示了他提出的晶體管密度計算公式 ，用以規範晶體管密度的通用衡量標準，以此厘清當前業內製程節點命名亂象，這也是英特爾不懈的堅持和努力，將有助於更加容易地比較不同廠商之間的技術。

介紹22FFL的功耗和性能最新進展

馬博同時介紹了英特爾22FFL功耗和性能的最新細節。22FFL是在2017年3月美國“英特爾精尖製造日”活動上首次宣布的一種麵向移動應用的超低功耗FinFET技術。英特爾22FFL可帶來一流的CPU性能，實現超過2GHz的主頻以及漏電降低100倍以上的超低功耗。此外，22FFL晶圓在本次活動上全球首次公開亮相。

英特爾公司執行副總裁兼製造、運營與銷售集團總裁Stacy Smith

揭曉10納米FPGA產品計劃

在本次活動上，英特爾公布了采用英特爾10納米製程工藝和晶圓代工平台的下一代FPGA計劃。研發代號為“Falcon Mesa”的FPGA產品將帶來全新水平的性能，以支持數據中心、企業級和網絡環境中日益增長的帶寬需求。

英特爾和Arm在10納米製程合作方麵 取得重大進展

在2016年8月於舊金山舉行的英特爾信息技術峰會(IDF)上，英特爾晶圓代工宣布與Arm達成協議，雙方將加速基於英特爾10納米製程的Arm 係統芯片 開發和應用。作為這一合作的結晶，今天的“英特爾精尖製造日”全球首次展示了Arm Cortex-A75 CPU內核的10納米測試芯片晶圓。這款芯片采用行業標準設計流程，可實現超過3GHz的性能。

發布業內首款麵向數據中心的 64層TLC 3D NAND固態盤

英特爾還宣布了業內首款麵向數據中心的64層、三級單元(TLC)3D NAND固態盤產品已正式出貨。該產品自2017年8月初便開始向部分頂級雲服務提供商發貨，旨在幫助客戶大幅提升存儲效率。在存儲領域30年的專業積澱，使得英特爾可以推出優化的3D NAND浮柵架構和製造工藝。英特爾的製程領先性，使其能夠快速把2017年6月推出的64層TLC固態盤產品組合，迅速從客戶端產品擴展到今天的數據中心固態盤產品。到2017年年底，該產品將在更大範圍內上市。